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產品簡介
徠卡DM8000M自動型半導體檢查顯微鏡概述徠卡 DM8000M 是專為 8 英寸（200?mm）及以下晶圓設計的全自動正置金相顯微鏡。
徠卡 DM8000M 是專為 8 英寸（200?mm）及以下晶圓設計的全自動正置金相顯微鏡。儀器整體采用模塊化結構，機身由高強度鋁合金與鋼制框架組合而成，保證了在長期高負荷使用下的剛性與穩定性。光學系統采用徠卡自研的多層鍍膜物鏡，提供 5×、10×、20×、50×、100× 五檔放大倍率，兼容明場、暗場、斜照明以及透射光等多種觀察模式，能夠滿足從宏觀缺陷定位到微觀結構分析的全流程需求。
在照明方面，DM8000M 采用最新的 LED 光源技術，光源集成在顯微鏡機身內部，熱輻射極低，且具備超長壽命和低能耗的優勢。用戶可通過一鍵切換實現不同波段（可選 UV）和照明方式的切換，提升了對不同材料和缺陷類型的可視化效果。
電動載物臺是本機的核心部件，行程 202?mm?×?202?mm，步進精度達到 0.01?µm，支持全自動掃描、拼圖和圖像采集。配套的 600 萬像素 CMOS 攝像頭與 Leica LAS 軟件實現實時圖像顯示、自動缺陷識別、尺寸測量以及批量數據導出，極大提升了生產線的檢測效率。
主要技術參數
| 參數 | 規格 |
|---|---|
| 最大樣品尺寸 | 8?inch（200?mm）晶圓 |
| 物鏡倍率 | 5×、10×、20×、50×、100× |
| 觀察模式 | 明場、暗場、斜照、透射 |
| 載物臺行程 | 202?mm?×?202?mm |
| 步進精度 | 0.01?µm |
| 攝像頭分辨率 | 600 萬像素 |
| 照明光源 | 高效 LED（可選 UV） |
| 軟件平臺 | Leica LAS（圖像采集、分析、報告） |
適用領域
半導體晶圓缺陷檢測與過程控制
*封裝結構檢查
MEMS 結構表征
光刻掩模質量評估
使用說明要點
開機準備：檢查 LED 光源連接、載物臺校準以及攝像頭狀態。系統自檢通過后進入主界面。
樣品裝載：使用專用晶圓夾具，將晶圓平穩放置在載物臺中心，確保無塵。
模式選擇：在軟件中選擇所需觀察模式（如暗場用于金屬顆粒檢測），并調節光強。
自動掃描：設定掃描區域與步進距離，啟動自動掃描，系統將自動完成圖像拼接并生成缺陷報告。
數據導出：檢測完成后，可將圖像、測量數據及報告導出為 PDF、CSV 或 LAS 專有格式，便于后續分析與歸檔。
DM8000M 通過硬件與軟件的深度融合，為半導體制造企業提供了從宏觀到微觀的全鏈路檢測能力，幫助實現更高的良率與更穩定的工藝控制。