1.精密勻膠控制

•采用AR-P-5350光刻膠，嚴格控制膠層厚度在1μm

•"低速-高速"兩步旋涂法，確保膠膜均勻性

•精確控制前烘溫度和時間，提升膠膜附著力

2.智能曝光系統

•通過QCAD/Klayout軟件實現圖形原位設計

•智能劑量優化算法自動匹配最佳曝光參數

•高精度對位系統確保圖形轉移精度

•采用高分辨率投影物鏡，突破光學衍射極限

•數字微鏡器件(DMD)實現快速圖形切換

•智能曝光控制系統確保工藝穩定性

•支持1μm及以下線寬圖形制備

•操作簡便，大幅提升科研效率

該技術已成功應用于：

•二維材料器件電極制備

•納米電子器件研發

•微納傳感器制造

•量子器件研究

隨著微納加工技術的不斷發展，澤攸科技將持續優化無掩膜光刻技術，為科研工作者提供更高效、更精準的微納加工解決方案。